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你们能提供什么质量的产品?

作者:本征晶体 时间:2021-10-22 浏览次数:0

CaF2材料可提供IR&UV材料生长方法:下降法晶体取向:、、透射带:0.13-10.5μm透射率:>94%@0.13-10.5μm二次退火应力94%@0.35-10.8µmMgF2生长方式:下降法& ...

CaF2材料可提供IR&UV材料生长方法:下降法晶体取向:<111>、<100>、<110>透射带:0.13-10.5μm透射率:>94%@0.13-10.5μm二次退火应力<6nm/cm
BaF2 IR(高透光率)和闪烁(低背景)材料可选 生长方式:下降法 单晶直径:D190量产,年产量可达30吨 晶向:<111>、<100>、<110>;透射带:0.15-14µm 透射率:>94% @ 0.35-10.8µm
MgF2 生长方式:下降法&提升法 材料特性:无铅 单晶直径:提拉法可提供最大D200单晶 晶向:<100>、<001>等;透射带:0.12-9µm 透射率:> 94% @ 5µm > 85% @ 0.2µm 低应力<2nm/cm 良好的光学均匀性,折射率变化ΔN<5*10-6
LiF 生长方法:下降法直径:多晶较小D150 单晶小于 D100 晶体取向:<100>、<111>、<200>;透射带:0.105-7.4μm 透射率:1.392 @ 0.6μm 1.37327 @ 2.5μm
单晶Si 生长方式:CZ 直径:小于D350 晶体取向:<111>、<100> 电阻率:5-20Ω/cm 稳定量产>6000Ω/cm 少量工艺>10000Ω/cm 传输带:1- 10µm 30-300µm 纯度:9N 单晶 Ge 生长方式:CZ N 型 直径:D150 晶体取向:<111>,<100> 电阻率:5-20Ω/cm 透射带:1-10µm 30-300µm 纯度:9N
成分:毛坯板:可完成各种平板、台阶、孔、异形板切割 粗糙度加工能力:(需确认) 直径:D2-D350mm 厚度:0.12-200mm 年产量300万片
窗口加工能力:尺寸:D2-350mm 厚度:0.12-60mm 精度:10-5 1/10L@633nm 平行:0.01mm 年产量:150万片
镜片加工能力:尺寸:D2-320mm 精度:10-5 1/10L@633nm 偏心距:0.5' 年产量:180 万片
棱镜加工能力:精度:10-5 1/4L@633nm 角精度:0.5' 年产量:300,000

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